一．行业简介
半导体行业是一个高能耗的行业，在半导体产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对作为半导体行业血脉的超纯水系统更是高之又高。超纯水制造工艺中打破了传统的固定观念，将节能减排的理念，充分应用到超纯水制造工艺中去。半导体行业水质符合美国ASTM标准 (18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级)
二．工艺流程
〈1〉预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象
〈2〉预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级渗透(正电荷反渗膜)-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
〈3〉预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
三．技术特征
〈1〉制取电子级超纯水
〈2〉可连续自动生产，不必停机再生
〈3〉出水水质优于常规离子交换法
〈4〉不需酸碱再生，不污染环境
〈5〉运行成本低，占地面积小
四．应用范围
〈1〉 大规模集成电路元器件的生产用水，一般电阻率均大于18MO-CM。按国家有关用水标准(GB/T11446.1-1997)执行。
〈2〉 电子元件厂，在焊接和组装过程中的冲洗用水。依据电子元件生产工艺不同，其用水标准中(即GB/T11446.1-1997)有可为四级(一级最高电导率18MO-CM以上，二级电阻率不低于15MO-CM，3级电阻率12MO-CM, 4级为0.5MO-CM)。
〈3〉半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水;
〈4〉超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水;
〈5〉实验室和中试车间用超纯水;
〈6>汽车、家电表面抛光处理;
<7>光电子产品;
<8>其他高科技精微产品。
